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content/酢酸亜鉛.md

@@ -64,6 +64,8 @@ pHも0貼りつきっぱなしになる~~
 
 > 乾燥ガス雰囲気下における酢酸亜鉛無水和物の熱プロセスは, 180℃付 近からの昇華で開始し, 熱分解は250℃での融解と同時に開始する。SCTG条件下では, 試料の融解は観測されず, 180℃付近での昇華反応のみで完結する。 高濃度の水蒸気雰囲気下での熱プロセスは, 乾燥ガス雰囲気中での反応とは大きく異なり, 250℃以下で結晶性ZnOを容易に生成させることができる。ZnOの生成は, 水蒸気濃度の増加に伴って促進され低温域にシフトする。
 
+> 酢酸亜鉛 をMOCVDの 前駆体 として, 昇華特性 を 利用してZnOを基板上に成膜するには, 原料漕内の温度を190～230℃に設定する必要が有り, これを超えると分解が促進されてしまうことが分かる。
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 [酸化亜鉛薄膜の製造方法](https://patents.google.com/patent/JP5288464B2/ja)
 
 
@@ -96,3 +98,34 @@ http://www.sciencemadness.org/smwiki/index.php/Zinc_acetate
 [[Homemade Thin-Film Transistor Experiments#混合前駆体溶液]]を読むと酸化亜鉛を直でIPAで溶かして酢酸を加えればそれで良いっぽい？既に無駄な努力を重ねた気がしてきた
 
 →これ普通にtypoで硝酸亜鉛と間違えてるだけだったっぽい。硝酸亜鉛は有機溶媒溶けるけど酸化亜鉛は無理
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+##### Low temperature biosynthesis of crystalline zinc oxide nanoparticles from _Musa acuminata_ peel extract for visible-light degradation of methylene blue
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+https://www.sciencedirect.com/science/article/abs/pii/S0030402620301133
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+バナナの皮と酢酸亜鉛
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+##### Effect of zinc acetate concentration on the structural and optical properties of ZnO thin films deposited by Sol-Gel method
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+https://academicjournals.org/journal/IJPS/article-full-text-pdf/F085D9418604.pdf
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+やっぱものエタノールアミンとメトキシエタノールは必須なんかなあ
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+##### Fabrication of a solution-processed thin-film transistor using zinc oxide nanoparticles and zinc acetate
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+https://www.academia.edu/download/50711444/0040-6090_2895_2906893-720161204-17215-pyocp6.pdf
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+> Zn(C2H3O2)2
2H2O (Sigma–Aldrich) or Zn(C2H3O2)2 (Aldrich) was dissolved in the mixture of IPA (Rockwood, isoclean), as a solvent, and MEA (Sigma–Aldrich), as both a complexing agent and a base, while stirring at 60 C for 1 h. The molar ratio of Zn to MEA was kept constant at 1.
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+##### ディップコーティング法による酸化亜鉛薄膜の調製
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+https://core.ac.uk/download/pdf/144187984.pdf
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+> 前駆体溶液の調整 には,Zn源として酢酸亜鉛二水和物 (ナカライテスク試薬特級)、添加物であるPr源として酸化プラセオジム (信越化学試薬特級) を, また溶媒としては特級エタノールを用いた｡さらに前駆体溶液の安定化,ならびに粘度調整のための成膜助剤として,モノエタノールアミン,ジェクノールアミンならびに トリエタノールアミン (各ナカライテスク試薬特級)を用いた｡
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+> 最終的な亜鉛濃度が1.0mol/L
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+> ディップコーティングした基板は,室温および110℃ でそれぞれ 5分間乾燥した後,酸素 もしくは窒素ガス気流中 (1L/min),400℃ に保った横型管状炉で10分間仮焼成した｡1回のコーティングで得 られる薄膜の膜厚がきわめて薄いため,ディップコーティング ･乾燥 ･仮焼成の工程を10回繰り返した｡その後,空気中,1000-1200℃ で 2時間焼成し,均一で徴密な酸化亜鉛薄膜を得た。
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+10回、、、、