76 lines
2.5 KiB
Markdown
76 lines
2.5 KiB
Markdown
|
---
|
|||
|
|
title: 酸化亜鉛系トランジスタ
|
|||
|
|
tags:
|
|||
|
|
- research
|
|||
|
|
- survey
|
|||
|
|
- semiconductor
|
|||
|
|
date: "2023-10-07T15:16:13+0900"
|
|||
|
|
---
|
|||
|
|
|
|||
|
|
## 方針
|
|||
|
|
|
|||
|
|
- NO真空装置
|
|||
|
|
- NO高温 (~500°、できれば~300°C、電子工作用のホットプレートで処理できる)
|
|||
|
|
- NO特殊薬品
|
|||
|
|
|
|||
|
|
## 材料
|
|||
|
|
|
|||
|
|
### 基板
|
|||
|
|
|
|||
|
|
ガラスプレート（化学用のスライドガラス）
|
|||
|
|
### 半導体
|
|||
|
|
|
|||
|
|
[[酢酸亜鉛]]ベースの溶液をスピンコートして、[[酸化亜鉛]]ベースのトランジスタを作る。溶媒は水とエタノールもしくはIPAの混合、キレート剤としては普通エタノールアミン系を使うが、クエン酸で代用する。
|
|||
|
|
|
|||
|
|
加熱は300度でなんとかなる想定
|
|||
|
|
|
|||
|
|
### 電極
|
|||
|
|
|
|||
|
|
導電性ペーストで頑張る。100°Cくらいで焼結、逆に250°Cとかに加熱すると焼けて朽ちるので、工程の順序が制限される。
|
|||
|
|
|
|||
|
|
### 誘電体（ゲート絶縁膜）
|
|||
|
|
|
|||
|
|
ポリビニルアルコール（PVA）をスピンコート
|
|||
|
|
|
|||
|
|
## 工程
|
|||
|
|
|
|||
|
|
- 事前準備
|
|||
|
|
- 電極のマスク（スクリーン）作成
|
|||
|
|
- xtoolのレーザーカッタースクリーン製版が楽そう
|
|||
|
|
- 櫛形電極でソース・ドレインを作る
|
|||
|
|
- 半導体前駆体溶液の作成
|
|||
|
|
- 誘電体の溶液作成
|
|||
|
|
|
|||
|
|
- 基板の洗浄(超音波洗浄、できれば塩酸とか)
|
|||
|
|
- 半導体の成膜
|
|||
|
|
- スピンコート
|
|||
|
|
- 中間乾燥
|
|||
|
|
- 焼結、冷却
|
|||
|
|
- ソース・ドレイン電極のスクリーンプリント
|
|||
|
|
- 導電ペースト加熱処理
|
|||
|
|
- ここまでで、紫外線当てて電流量の変化を見られる
|
|||
|
|
- 誘電体成膜
|
|||
|
|
- 電極にマスクする（テープとか）
|
|||
|
|
- スピンコート
|
|||
|
|
- 乾燥
|
|||
|
|
- ゲート電極のスクリーンプリント
|
|||
|
|
- 誘電体を破壊しないように気を付ける
|
|||
|
|
- 導電ペースト加熱処理
|
|||
|
|
|
|||
|
|
|
|||
|
|
|
|||
|
|
## その他の方法
|
|||
|
|
|
|||
|
|
- アルミ板をベースにして、酸化皮膜をゲート絶縁膜にしたら楽なのでは？
|
|||
|
|
- [[Homemade Thin-Film Transistor Experiments#次にやること]]曰く、絶縁破壊起きてダメだったらしい
|
|||
|
|
- 原因は分かってないが、アルミの膨張率が大きいのでひび割れたのではと
|
|||
|
|
- ただ、酸化被膜の作り方にもいろいろあるみたいなので必ずしも不可能ではないのでは
|
|||
|
|
|
|||
|
|
- 液体誘電体にするのはどうか
|
|||
|
|
- ソース・ドレイン電極に触らないような形にできれば良さそう
|
|||
|
|
|
|||
|
|
## [[酸化亜鉛トランジスタ-サーベイ]]
|
|||
|
|
|
|||
|
|
## [[蜂蜜誘電体トランジスタ]]
|
|||
|
|
|
|||
|
|
## [[スクリーンプリントでのトランジスタ]]
|